硫酸鋇溶液中試型研磨分散機

產(chǎn)品型號： GMD2000/4

所屬分類：研磨分散機

更新時間：2025-10-20

簡要描述：硫酸鋇溶液中試型研磨分散機為立式分體結(jié)構(gòu)，精密的零部件配合運轉(zhuǎn)平穩(wěn)，運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到低，保證機器連續(xù)24小時不停機運行。

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SGN硫酸鋇溶液中試型研磨分散機設計*，能夠延長易損件的使用時間，因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎。可以一機多用，也可以單獨使用，且粉碎粒度范圍廣，成品粒徑可以進行調(diào)整。

硫酸鋇，適用于上、下消化道造影。無臭、無味粉末，密度4.25-4.5，分解溫度＞1600℃。溶于熱濃硫酸，幾乎不溶于水、稀酸、醇。水懸浮溶液對石蕊試紙呈中性。
    

對于硫酸鋇溶液的生產(chǎn)，目前許多廠家采用國產(chǎn)膠體磨生產(chǎn)，由于國產(chǎn)膠體磨本身轉(zhuǎn)速較低為2930轉(zhuǎn)，生產(chǎn)出來的硫酸鋇溶液粒   徑一般在20μm左右，而且生產(chǎn)效果很低，需要研磨5-6小時。而使用SGN研磨分散機進行處理，研磨兩遍，粒徑可以細化到5μm，效果好，效率高。

研磨分散機是將膠體磨和分散機一體化的設備，效果遠遠好于單臺膠體磨處理的效果，研磨分散機是一臺目前型的研磨分散設備

硫酸鋇CMD2000系列研磨分散設備是SGN（上海）公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進行改裝，我們將三級變跟為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過膠體磨細化物料，然后再經(jīng)過乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）

上海思峻的研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料。研磨分散機為立式分體結(jié)構(gòu)，精密的零部件配合運轉(zhuǎn)平穩(wěn)，運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到低，保證機器連續(xù)24小時不停機運行。簡單的說就是將SGN/思峻膠體磨進行進一步的改良，將單一的膠體磨磨頭模塊，改良成兩級模塊，加入了一級分散盤。可根據(jù)物料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇） SGN研磨分散機可以高速研磨，分散，乳化，均質(zhì)等功能，設備轉(zhuǎn)速可達14000rpm，是目前國產(chǎn)設備轉(zhuǎn)速的4-5倍。

的特點：

線速度很高，剪切間隙非常小，當物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨

定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

設備其它參數(shù):

設備等級：化工級、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級、無菌級
電機形式：普通馬達、變頻調(diào)速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、
電源選擇： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機選配件： PTC 熱保護、降噪型
研磨分散機材質(zhì)：SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機選配：儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車
研磨分散機表面處理：拋光、耐磨處理
進出口聯(lián)結(jié)形式：法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機選配容器：本設備適合于各種不同大小的容器